一般來(lái)說(shuō)高速鋼只能鉆硬度低于HRC36的工件。用來(lái)鉆高速鋼的鉆頭有2種，一是鍍鈦的高速鋼鉆，比較便宜，硬度可以達到HRC78（前提是是要真正的工業(yè)鍍）。 二是硬質(zhì)合金鉆頭。不銹鋼鋼的特點(diǎn)是韌性高、容易粘刀。所以要求鉆頭硬度要高，表面光潔度要好，鉆頭的頂角比普通鉆頭大(130--135度之間)。同時(shí)冷卻要充分。并且進(jìn)刀量大于0.15mm以盡可能不在冷作硬化層切削。切削速度盡可能低以減小切削溫度。切削液采用濃的乳化液.。常用加工不銹鋼的鉆頭有: 高鈷鉆頭(m35鉆頭,m42鉆頭)，其中 m42鉆頭好。另外還可以用硬質(zhì)合金鉆頭,但價(jià)格較高。

卷繞式鍍膜機30年來(lái)有了較大的發(fā)展，鍍膜產(chǎn)品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更大，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結構必須配置較大的排氣系統才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機組，使設備成本降低，并節約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。

　　卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機所有的結構外，必須有一個(gè)為了實(shí)現連續鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較大，因此，在真空室的結構上又有單室和多室之分

卷繞機構設計中應考慮的幾個(gè)問(wèn)題：

　?、偬岣呔砝@速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運動(dòng)的線(xiàn)速度，它是卷繞機構的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見(jiàn)隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。